据台湾《经济日报》报道，台积电2纳米制程将于2025年量产，外界看好进度可望领先对手三星及英特尔。
台积电研究发展资深副总经理米玉杰表示，将在2024年取得ASML下世代极紫外光微影设备（high-NA EUV），为客户发展相关的基础设施与构架解决方案。台积电业务开发资深副总经理张晓强则表示，2024年取得设备后，初期主要用于与合作伙伴共同研究，尚不会量产。
台积电推出的采用纳米片晶体管构架的2纳米制程技术，在相同功耗下较3纳米速度快10%至15%，在相同速度下功耗降低25%至30%，应用包含行动运算、高性能版本及完备的小芯片整合解决方案。
