中微公司：首台高选择性刻蚀设备付运国内重要集成电路研发制造客户

10月22日，中微公司官微宣布，Primo Domingo®气相高选择性刻蚀设备全球首台机顺利付运国内重要集成电路研发制造客户。据中微公司介绍，目前公司刻蚀设备全面覆盖从65纳米到3纳米及更先进工艺的刻蚀应用，全面覆盖存储器中各类超高深宽比刻蚀应用。

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