阿斯麦9月1日透露,其High NA EUV(高数值孔径极紫外光刻)平台首次用于高产量逻辑芯片产品,标志着0.55 NA光刻技术从认证阶段迈向生产应用。
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阿斯麦9月1日透露,其High NA EUV(高数值孔径极紫外光刻)平台首次用于高产量逻辑芯片产品,标志着0.55 NA光刻技术从认证阶段迈向生产应用。
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