SK海力士;375层3D NAND;年内量产;钼材料;超高层堆叠难题

SK海力士375层3D NAND年内量产,引入钼材料攻克超高层堆叠难题

6月11日消息,SK海力士已完成375层3D NAND闪存的量产验证,正准备将技术转移至清州M15工厂现有生产线,预计年内启动量产。工艺方面,SK海力士在375层产品中以钼(Mo)部分替代此前使用的钨(W)作为字线金属栅极材料。钼在细微字线结构中电阻低于钨,可提升信号传输速度及读写擦除性能;且无需在沉积前额外铺设阻挡衬层,有助于实现更高密度结构。

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