4月15日，金宏气体宣布，公司已与国际存储芯片行业巨头正式签署供气框架合同，成为其直接气体供应商之一。根据协议，金宏气体将向某国际存储芯片行业企业供应超高纯度氧化亚氮（N₂O）气体，该类气体主要用于半导体制造化学气相沉积（CVD）工艺制程。
界面新闻
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4月15日，金宏气体宣布，公司已与国际存储芯片行业巨头正式签署供气框架合同，成为其直接气体供应商之一。根据协议，金宏气体将向某国际存储芯片行业企业供应超高纯度氧化亚氮（N₂O）气体，该类气体主要用于半导体制造化学气相沉积（CVD）工艺制程。
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