据报道，当地时间2月23日，阿斯麦研究人员表示，他们已找到提升关键芯片制造设备光源功率的方法。通过将EUV（极紫外光刻）光源功率提升至1000瓦，有望在2030年前使芯片产量提高50%。
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据报道，当地时间2月23日，阿斯麦研究人员表示，他们已找到提升关键芯片制造设备光源功率的方法。通过将EUV（极紫外光刻）光源功率提升至1000瓦，有望在2030年前使芯片产量提高50%。
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