据台湾FTNN新闻网12月2日报道，台积电在今年7月惊传机密技术外泄案。一名已离职工程师陈力铭勾结台积电竹科厂2名工程师戈一平、吴秉骏涉嫌窃取2纳米制程机密技术，并泄漏给竞争对手，在职2名员工前者案发后离职，后者遭解雇，3人均移送法办。台湾“高等检察署”2日侦查终结，依“安全法”、“营业秘密法”等4罪，追加起诉日企东京电子公司，求处共1.2亿元新台币（1元新台币约合0.23元人民币）罚金。据报道，陈力铭曾任职于日本半导体大厂东京电子公司在台湾的子公司。涉嫌窃取2纳米制程机密技术的3名工程师皆毕业于同一所大学，为学长学弟关系。（参考消息）
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