10月17日,中微公司宣布其成都研发及生产基地暨西南总部项目正式启动建设。项目一期占地约50亩,建筑面积约7万平方米,将发展成为集研发、制造于一体的综合性基地,计划于2027年建成投产。开工仪式上,中微公司董事长兼总经理尹志尧介绍,成都研发及生产基地专注薄膜沉积设备等半导体高端制造设备。公司将不断加快新设备的研发速度,在今后的五到十年,通过有机生长和外延扩展,逐步覆盖集成电路关键领域50%至60%设备。

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10月17日,中微公司宣布其成都研发及生产基地暨西南总部项目正式启动建设。项目一期占地约50亩,建筑面积约7万平方米,将发展成为集研发、制造于一体的综合性基地,计划于2027年建成投产。开工仪式上,中微公司董事长兼总经理尹志尧介绍,成都研发及生产基地专注薄膜沉积设备等半导体高端制造设备。公司将不断加快新设备的研发速度,在今后的五到十年,通过有机生长和外延扩展,逐步覆盖集成电路关键领域50%至60%设备。
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