拓荆科技近日接受机构调研时表示，公司研制的ALD设备系列产品包括PE-ALD设备和Thermal-ALD设备，PE-ALD设备已实现量产，可以沉积SiO2、SiN等介质薄膜材料，Thermal-ALD设备已出货至不同客户端进行验证，可以沉积Al2O3等金属化合物薄膜；SACVD和HDPCVD设备均已实现产业化。公司将持续保持产品核心竞争优势，不断扩大量产应用规模。
界面新闻
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拓荆科技近日接受机构调研时表示，公司研制的ALD设备系列产品包括PE-ALD设备和Thermal-ALD设备，PE-ALD设备已实现量产，可以沉积SiO2、SiN等介质薄膜材料，Thermal-ALD设备已出货至不同客户端进行验证，可以沉积Al2O3等金属化合物薄膜；SACVD和HDPCVD设备均已实现产业化。公司将持续保持产品核心竞争优势，不断扩大量产应用规模。
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